+84 2438612612
CÔNG TY TNHH THIẾT BỊ KHOA HỌC KỸ THUẬT AN DƯƠNG
info@adgroup.vn
Colorlib Template

Alphacen 300– Giải pháp AFM quét cho các mẫu nặng và lớn lên đến 300 mm

Hãng sản xuất: Nanosurf

Giá bán: Đang cập nhật

Liên hệ ngay


 Hệ thống AFM tiêu chuẩn
 Bàn mẫu 300 mm x 300 mm
 Lý tưởng cho các mẫu lên đến 45 kg

Nanosurf là công ty dẫn đầu thị trường về các hệ thống được phát triển tùy chỉnh dành cho các mẫu lớn và nặng. Trong những năm qua, nhóm của chúng tôi đã xây dựng một cơ sở kiến thức đáng kể để phát triển các giai đoạn tùy chỉnh này cho nhiều khách hàng khác nhau.

Bằng cách sử dụng kho kiến thức rộng lớn này, giờ đây chúng tôi đã phát triển một sản phẩm tiêu chuẩn cho các mẫu lớn lên đến 300 mm hoặc các mẫu nặng lên đến 45 kg. Alphacen 300 tối ưu giá thành và thời gian giao hàng so với hệ thống trước đó.


Chạy chuỗi phép đo tự động

Alphacen 300 bao gồm phần mềm tự động hóa mạnh mẽ cho phép người dùng chọn trước các vị trí cần nghiên cứu, trên hình ảnh quang học hoặc trên bàn soi mẫu và cho phép hệ thống thu thập hình ảnh mà không cần sự can thiệp của người dùng.

Alphacen 300 stage system
Bàn soi Alphacen 300 cho phép đo trên mọi điểm của mẫu 300 mm x 300 mm

Các mẫu thủy tinh nặng

Hầu hết các AFM mẫu lớn đều có khả năng xử lý các mẫu phẳng có đường kính lên tới 200 mm, thường được dùng để phân tích các tấm bán dẫn mỏng. Tuy nhiên, một trong những hạn chế của các hệ thống này là trọng lượng mẫu mà chúng có thể xử lý.

Alphacen 300 giải quyết nhu cầu về một AFM tiêu chuẩn có khả năng chụp ảnh các mẫu lớn và nặng với giới hạn trọng lượng lên tới 45 kg. Hành trình của tầng Z là 50 mm cũng cho phép chụp ảnh các mẫu không phải là tấm wafer silicon mỏng.

Các mẫu lớn, nặng khá phổ biến trong ngành quang học, ví dụ: trong sản xuất thấu kính lớn và công nghiệp bán dẫn, v.d. băng cassette lắp ráp hoặc sản phẩm hoàn chỉnh.

Các mẫu lớn

Hệ thống Alphacen 300 AFM có một bàn mẫu có thể di chuyển 300 mm x 300 mm theo phương XY và có thể đo mọi điểm trên mẫu 300 mm. Theo yêu cầu, bàn soi có thể được sửa đổi để xử lý phạm vi lớn hơn tính bằng X (lên đến 500 mm).

Giai đoạn XY có độ phân giải 1 µm và độ chính xác định vị lại một bên là 2 µm, cho phép định vị chính xác mẫu dưới đầu chụp ảnh.

Tính năng tự động hóa tích hợp của phần mềm cho phép tiết kiệm thời gian lập trình trước các chuỗi phép đo.

Scan size:
1.5 µm x 1.5 µm
The scan shows step heights of 1.5 nm between the large terraces, and 0.75 nm between the large and small terrace half-steps.
 
Scan size:
5 µm x 5 µm
Surface roughness: 0.112 nm RMS (0.087 nm Ra)

Sản phẩm liên quan